半導體設備廠商拓荊科技股份有限公司（以下簡稱“拓荊科技”）申報科創板IPO已獲受理。拓荊科技主營業務為半導體薄膜沉積設備的研發、生產和銷售，其主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備三個系列。

2018年-2020年，拓荊科技營收增長較快，從7064.4萬元增長至4.36億元，復合增長率達148.32%。

本次IPO拓荊科技計劃募資10億元，計劃分別用于高端半導體設備擴產、先進半導體設備的技術研發與改進、ALD設備研發與產業化和補充流動資金4個項目。

目前拓荊科技的產品已廣泛應用于國內的28/14nm邏輯芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128層3D NAND FLASH晶圓制造產線，并開始了10nm及以下制程產品驗證測試。

《拓荊科技招股書》